一、半导体加工用纯水设备概述

　　半导体加工一般包括薄膜沉积、光刻、蚀刻以及工艺整合等技术，由于半导体是介于导体和绝缘体之间，因此在半导体加工用水时也需要符合标准。半导体加工用纯水设备采用双级反渗透技术和纯化技术，可以去除原水中的导电离子，电阻率可以达到16兆欧以上。
 

纯水设备

　　二、半导体加工用纯水设备性能指标

　　进水高SDI(15分钟)：<5

　　进水高浊度：<1.0NTU

　　进水高含Fe值：<0.05ppm

　　进水高自由氯浓度(mg/l)：<0.1

　　进水PH值：2-11

　　进水水温：4-45°C

　　脱盐率：95-99%

　　出水PH值：5-7

　　回收率：60-80%
 

福州纯水设备

　　三、半导体加工用纯水设备特点

　　1、连续产出超纯水，出水水质具有的稳定度，以高产率产生超纯水。

　　2、设备结构紧凑，体积小，占地面积少。

　　3、使用安全可靠，避免人工接触酸碱。

　　4、节省了反冲和清洗用水，无再生污水，不须污水处理设备。

　　5、安装简单方便，安装费用低廉，减低设备的运行成本及维修成本。

　　6、设备运行操作简单，劳动强度较低。
 

半导体加工用纯水设备

　　以上是半导体加工用纯水设备的简单介绍。莱特莱德福州水处理设备公司是一家专业从事水处理设备设计、制造、安装调试及服务于一体的专业水处理工程公司。莱特莱德福州水处理设备公司拥有以环境院教授领衔的专业技术团队,数十年的丰富工程经验，运用先进的技术，为工业各领域提供水处理整体解决方案。